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產(chǎn)品展示/ Product display

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負載型催化劑納米膠體磨

負載型催化劑納米膠體磨轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化分散的效果。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:2105
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詳細介紹

負載型催化劑納米膠體磨

對于電催化反應來說,析*反應(HER)和氧還原反應(OER)在有前途的清潔能源技術如金屬-空氣電池,燃料電池和水分離裝置等方面已經(jīng)取得了越來越重要的意義。然而,HER和OER的動力學遲緩嚴重制約了清潔能源技術的發(fā)展。因此,通過使HER的超電勢**化,制造能夠增強催化效率的活性電催化劑是非常需要的。為了提高能量轉(zhuǎn)換裝置的電化學性能,尤其是燃料電池和金屬-空氣電池的電化學性能,開發(fā)具有高電催化性能的低成本非貴金屬雙功能電催化劑,對HER和OER來說都是至關重要的。

為了避免納米粒子的聚集和催化活性的降低,開發(fā)新型碳載體以促進催化劑的電化學性能也引起了越來越多的關注。碳納米管(CNTs),碳納米纖維(CNFs),碳納米線圈,有序介孔碳(OMCs)和石墨烯等碳材料具有順序結(jié)構(gòu)和高導電性,可以顯著提高Pt基催化劑的性能。

具有優(yōu)良結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,電性能和強界面偶聯(lián)的分層納米材料通過將碳涂覆的少量層狀MoS2納米片組裝在碳穩(wěn)定的Ti3C2MXene上來制備,表現(xiàn)出非常好的析*反應性能(HER),在酸性溶液中具有正向起始電位,低過電位和長時間穩(wěn)定性。通過相互擴散輔助方法將二*基二甲酸1,4-*二甲酸酯與Ti3C2Tx納米片的混合材料施加在具有10mA cm-2電流密度的OER中,電勢為1.64V,相對于可逆*電極在0.1M KOH中的Tafel斜率為48.2mV dec-1。由于Ti2C與g-C3N4之間有效的協(xié)同作用,合成了一種由二維碳化鈦(Ti2C)和石墨氮化碳(g-C3N4)組成的新型光催化劑,以提高水**活性。這些研究表明,與原始的Ti3C2Tx納米片相比,載有電催化活性組分的Ti3C2Tx納米片顯示出更好的電催化性能。

一種負載型催化劑的制備方法,包括以下步驟:

提供載體和催化劑前驅(qū)體在溶劑中的混合分散液;將混合分散液采用等離子體進行照射,即得;所述溶劑包括氧源溶劑和水,所述氧源溶劑為醇類化合物;所述催化劑前驅(qū)體為可溶于水的過渡金屬元素化合物。

所述混合分散液的制備方法包括:將催化劑前驅(qū)體溶于水制得催化劑前驅(qū)體溶液;將載體分散在氧源溶劑中得到載體分散液;將載體分散液與催化前驅(qū)體分散液混勻,即得。

高速剪切均質(zhì)分散機主要應用于處理大量生成超細懸乳液。由于同時用三個均質(zhì)頭(轉(zhuǎn)子和定子)進行處理,可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,因而生成的混合液的穩(wěn)定性更好。分散頭容易更換,適合于各種不同的應用。不同的機器都有相同的轉(zhuǎn)速和剪切率,這樣便于規(guī)模擴產(chǎn)。符合CIP和SIP的清潔標準,因此特別適合于食和藥品生產(chǎn)

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎上又開發(fā)出XRS2000超高速剪切均質(zhì)機。其剪切速率可以超過13,000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

分散機采用博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),**更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料****通過分散剪切。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

負載型催化劑納米膠體磨

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