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研磨分散設(shè)備操作全攻略:從開(kāi)機(jī)到關(guān)機(jī)的詳細(xì)步驟
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硫酸鋇研磨高速分散機(jī),對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來(lái)的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SGN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。
產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間:2025-11-17
訪 問(wèn) 量:53
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硫酸鋇研磨高速分散機(jī)
研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于單臺(tái)膠體磨處理的效果,研磨分散機(jī)是一臺(tái)目前創(chuàng)新型的研磨分散設(shè)備。
對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來(lái)的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SID研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

硫酸鋇GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

硫酸鋇研磨高速分散機(jī)設(shè)備選型表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||

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